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描述：鍍Ni標(biāo)準(zhǔn)片類(lèi)型及參數(shù)鍍NiNi1.89μm/Fe Ni3.64μm/Cu Ni4.24μm/Cu2.4μm/Fe Ni2.16μm/xx 備注：其它單鍍層，多鍍層，合金層等規(guī)格標(biāo)準(zhǔn)片也可定制，歡迎來(lái)電！！!
廠商性質(zhì)
經(jīng)銷(xiāo)商更新時(shí)間
2025-05-18訪問(wèn)量
1765| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬(wàn)-20萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,包裝/造紙/印刷 |
鍍Ni標(biāo)準(zhǔn)片類(lèi)型及參數(shù)
鍍Ni
Ni1.89μm/Fe
Ni3.64μm/Cu
Ni4.24μm/Cu2.4μm/Fe
Ni2.16μm/xx
備注：其它單鍍層，多鍍層，合金層等規(guī)格標(biāo)準(zhǔn)片也可定制，歡迎來(lái)電！！!
常用的鎳銀或鎳金層一般1~3微米。鎳層較厚， 要起阻擋層作用。
另外鍍的方法上有電鍍和EN鍍，鍍層表面質(zhì)量不一樣。
分立半導(dǎo)體器件的電鍍一般采用純錫或錫基和金電鍍，這幾年由于歐洲RoHS指令生效，純錫電鍍較為流行。純錫電鍍有Wisker的問(wèn)題，所以鍍層厚度的最小值一般要求超過(guò)8微米，并配合150C回火。
不同的封裝工藝，對(duì)鍍層的要求不盡一樣，業(yè)界沒(méi)有固定的標(biāo)準(zhǔn)。只要能做到滿足可靠性就可以了，200-600微英寸。
產(chǎn)品分類(lèi)
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